Uprzejmie informujemy, że w dniu 3 kwietnia nasz sklep oraz salony w Krakowie i Katowicach będą nieczynne. Zamówienia złożone w tym terminie będą realizowane od 7 kwietnia.
Filtr UV K&F Concept Nano-C HMC UV to niezastąpione narzędzie w niezbędniku każdego fotografa. Nie tylko skutecznie ochroni obiektyw przed kurzem, zanieczyszczeniem i uszkodzeniami mechanicznymi, ale także pomoże poprawić jakość zdjęć. Dzięki wielowarstwowej powłoce HMC (Hard Multi-Coated) oraz zastosowaniu japońskiego szkła optycznego, filtr gwarantuje redukcję odbić i odblasków, poprawiając kontrast i wyrazistość fotografii. Ultracienka ramka o grubości 3,3 mm zapobiega występowaniu efektu winietowania.
Produkt został dodany do Twojego koszyka. W koszyku możesz okreslić ilość produktów które chcesz zamówić.
Cena:
Wszystkie ceny zawierają koszty gospodarowania odpadami. Informacje przedstawione na niniejszej witrynie nie stanowią oferty w rozumieniu Kodeksu Cywilnego.
strefa marek
Ta strona korzysta z plików cookie, aby zapewnić lepszą wygodę użytkowania.
Korzystając z tej strony, wyrażasz zgodę na używanie przez nas wszystkich plików cookie zgodnie z warunkami naszej
polityki plików cookie. Dowiedz się również o tym, jak Google przetwarza dane osobowe
zapisy!
