Obiektywy

Zestaw ochronny dla aparatu X100.
Filtr ochronny pomaga zabezpieczyć przednią soczewkę obiektywu przez kurzem i zabrudzeniami. Należy po prostu nakręcić go na front obiektywu i zapewnić mu natychmiastową ochronę! To jednak nie wszystko, powierzchnia filtra została powleczona zaawansowaną powłoką Super EBC, która pomaga ograniczyć występowanie zjawisk ghostingu (tzw. zjawy, obrazy wtórne) i flary (odblasków) i innych artefaktów świetlnych, z kolei jego konstrukcja oparta na cienkim pierścieniu zapobiega winietowaniu, gdy używane są jednocześnie dwa filtry. Do instalacji wymagany jest adapter AR-X100

Zestaw ochronny dla aparatu X100.
Filtr ochronny pomaga zabezpieczyć przednią soczewkę obiektywu przez kurzem i zabrudzeniami. Należy po prostu nakręcić go na front obiektywu i zapewnić mu natychmiastową ochronę! To jednak nie wszystko, powierzchnia filtra została powleczona zaawansowaną powłoką Super EBC, która pomaga ograniczyć występowanie zjawisk ghostingu (tzw. zjawy, obrazy wtórne) i flary (odblasków) i innych artefaktów świetlnych, z kolei jego konstrukcja oparta na cienkim pierścieniu zapobiega winietowaniu, gdy używane są jednocześnie dwa filtry. Do instalacji wymagany jest adapter AR-X100

Filtr ochronny pomaga zabezpieczyć przednią soczewkę obiektywu przez kurzem i zabrudzeniami. Należy po prostu nakręcić go na front obiektywu i zapewnić mu natychmiastową ochronę! To jednak nie wszystko, powierzchnia filtra została powleczona zaawansowaną powłoką Super EBC, która pomaga ograniczyć występowanie zjawisk ghostingu (tzw. zjawy, obrazy wtórne) i flary (odblasków) i innych artefaktów świetlnych, z kolei jego konstrukcja oparta na cienkim pierścieniu zapobiega winietowaniu, gdy używane są jednocześnie dwa filtry. Do instalacji wymagany jest adapter AR-X100

Filtr szary regulowany K&F Concept Nano-C HMC Fader ND2-400 z możliwością płynnej regulacji od ND2 do ND400, pozwala na redukcję ekspozycji w zakresie od 1 aż do 9 działek przysłony. To jedno narzędzie pozwoli Ci zastąpić zestaw tradycyjnych filtrów o różnych gęstościach. Ultracienka konstrukcja, wysokiej jakości szkło optyczne oraz hydrofobowa powłoka zapewniają najwyższy komfort pracy i doskonałą jakość obrazu.

Filtr dyfuzyjny K&F Concept White Mist daje efekt subtelnego rozmycia i łagodnej poświaty, ale także wygładza skórę i niweluje widoczność niedoskonałości oraz przebarwień. Japońskie szkło optyczne AGC zamknięto w ultrasmukłej aluminiowej ramce o grubości 3,3 mm. 18-warstwowa powłoka zapewnia redukcję odblasków. Ponadto jej hydrofobowe właściwości ułatwiające czyszczenie.

K&F Concept Nano-C HMC CPL - 67 mm to kołowy filtr polaryzacyjny, który pozwoli wyeliminować uciążliwe odblaski i poprawić jakość zdjęć. Wielowarstwowa powłoka HMC skutecznie redukuje odbicia światła, zapewniając czyste i klarowne kadry. Dzięki zastosowaniu ergonomicznego pokrętła regulującego efekt polaryzacji możesz precyzyjnie dostosować filtr do bieżących potrzeb. Japońskie szkło optyczne gwarantuje doskonałą transmisję światła, a cienka ramka o grubości 5 mm pozwala uniknąć występowania efektu winietowania. W zestawie etui ochronne.

Filtr UV K&F Concept Nano-C HMC UV to niezastąpione narzędzie w niezbędniku każdego fotografa. Nie tylko skutecznie ochroni obiektyw przed kurzem, zanieczyszczeniem i uszkodzeniami mechanicznymi, ale także pomoże poprawić jakość zdjęć. Dzięki wielowarstwowej powłoce HMC (Hard Multi-Coated) oraz zastosowaniu japońskiego szkła optycznego, filtr gwarantuje redukcję odbić i odblasków, poprawiając kontrast i wyrazistość fotografii. Ultracienka ramka o grubości 3,3 mm zapobiega występowaniu efektu winietowania.